2024/10/10 (木) WEB配信型ライブセミナー
半導体洗浄プロセスの基礎から乾燥技術や装置の最新動向まで
株式会社R&D支援センター 白水 好美 氏 他 55,000円
第1講: オフィスシラミズ 室長 【専門】 半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善 【経歴】 1983年 4月-1991年 富士通 1991年10月-2013年 9月 日本電気-NECエレクトロニクスールネサスエレクトロニクス 2013年11月-2015年12月 Samsung electronics 常務待遇
第2講: (株)SCREENセミコンダクターソリューションズ 洗浄要素開発統轄部 洗浄技術開発部 洗浄技術開発一課
他にもこんなセミナーがあります
SiCウェハの研磨技術と高速化、低ダメ...
開催日:2025年01月15日(水)
各種電子部品の故障メカニズムとその特定...
開催日:2025年01月16日(木)
グリーンシートの成形プロセスと脱脂、焼...
開催日:2025年01月17日(金)
半導体製造用薬液の不純物対策 -フィ...
開催日:2025年01月20日(月)
真空プロセスで取り扱う化学物質の危険性...
開催日:2025年01月21日(火)
リン酸鉄(LFP)系リチウムイオン電池...
開催日:2025年01月24日(金)
CMPプロセスの最適化と装置・消耗部材...
開催日:2025年01月28日(火)
e-Axle向け部品・材料の開発動向と...
開催日:2025年01月30日(木)
カーボンプライシング制度の最新動向と法...
非鉛系ペロブスカイト太陽電池の高耐久、...
開催日:2025年01月31日(金)
廃リチウムイオン二次電池からの電極分離...
開催日:2025年02月06日(木)
パルスNMRによる高濃度分散体の分散状...
開催日:2025年02月07日(金)