EUVメタルレジストの作製、反応機構と評価

株式会社　技術情報協会山下良之氏他 60,500円

★ 半導体微細化のキーマテリアル！　要求特性、開発事例、今後の課題を解説！

会場

講師

プログラム

特典

お知らせ

開催日時

2024/01/22 (月) 10:30～ 16:15 （受付 10:00 ～ )

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申込み期間

～ 2024/01/21

主催会社

株式会社　技術情報協会

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定員

30名

受講料

60,500円 (税込／各種割引については下段「お知らせ」欄をご参照ください）

開講場所

・会場名：　Zoomを利用したLive配信
・住所：　※会場での講義は行いません　　
・交通アクセス：　

講師

山下良之氏: 【専門】放射光を用いた表面・界面物性

山本洋揮氏

関口淳氏

カリキュラム、
プログラム

【10:30-12:00】
１．EUVメタルレジストの作製, 物性評価と反応機構
(国研)物質・材料研究機構　山下良之氏
　
【習得できる知識】
メタルレジストがなぜ重要か、メタルレジストの基本構造、メタルレジストのEUV露光による反応機構

【講座の趣旨】
レジストの歴史歴背景、メタルレジストの重要性、メタルレジストの作製方法およびメタルレジストのEUVによる反応機構を紹介する。メタルレジストの反応機構を明らかにする分析手法に関しても紹介する。

１．レジスト
　1.1 レジストの歴史
　1.2 レジストの歴史的背景
　1.3 メタルレジストの重要性
２．メタルレジスト
　2.1 メタルレジストの種類
　2.2 メタルレジストの作製方法
　2.3 メタルレジストの構造
　2.4 メタルレジストのEUV露光後の構造
３．メタルレジストEUV露光による反応機構の解析
　3.1 XRDによるEUV露光による構造変化解明
　3.2 光電子分光によるEUV露光による反応元素解明
　3.3 XANESによるEUV露光による反応化学結合解明

【13:00-14:30】
２．EUVレジスト材料の反応機構、高性能化とメタルレジスト材料の性能評価
(国研)量子科学技術研究開発機構　山本洋揮氏

【講座の趣旨】
コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラフィが実現された。本講演では、EUV用レジスト材料の反応機構およびEUVレジスト材料の反応機構に基づいた高性能化にについて解説します。特に、メタルレジスト材料の性能評価に関する研究について最近の研究成果を挙げながら紹介する。

１．はじめに
　1.1 リソグラフィ工程とリソグラフィ技術の変遷
　1.2 EUVリソグラフィの現状と課題
　1.3 EUVリソグラフィレジスト評価システム
２．EUV/EBレジストの反応機構
　2.1 EUV/EBリソグラフィ用化学増幅型レジストの反応機構
　2.2 EUV/EBレジスト材料の反応機構に基づいた高性能化
　2.3 次世代リソグラフィ用レジスト材料の要求特性
　2.4 ＥＵＶ/EB化学増幅型レジストの問題点
　2.5 ＥＵＶ/EBレジストの設計指針
３．メタルレジスト材料の性能評価
　3.1 EUVリソグラフィ用メタルレジストの概要
　3.2 放射線による金属ナノ粒子の形成メカニズムに基づいた有機無機ハイブリッドパターン形成
　3.3 メタル化合物の添加によるEUVレジストの高感度化
　3.4 メタルレジスト材料の性能評価
４．今後の課題

【14:45-16:15】
３．EUVレジスト、メタルレジストの評価技術
リソテックジャパン(株)　関口淳氏
　
【講座の趣旨】
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。

１．EUVLの概要
　1.1 EUVLの概要
　1.2 EUVL用レジスト
２．アウトガス評価技術
　2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法
　2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置
３．EUVレジストの評価技術
　3.1 EUV透過率測定
　3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化
　3.3 屈折率nk測定
　3.4 EUV2光束干渉露光
４．EUVメタルレジストの評価技術
　4.1 メタルレジストの概要
　4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析
　4.3 EUVメタルレジストの問題点
５．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度

特典

セミナー資料付
各講で最後に質疑応答時間あり。

セミナー参加費
支払い方法

1. 銀行振込または現金書留にてお願いいたします。

2. 原則として開催日までにお願い致します。

3. 銀行振込の場合は、原則として領収証の発行は致しません。

4. 振り込み手数料はご負担ください。

お知らせ

●各種割引について
1. 同一テーマ1社2名以上同時申込の場合のみ、1名につき5,500円（税込）割引いたします。
2. 大学（教員、学生）、公的機関、医療機関の方は、「アカデミック価格」33,000円/1名（税込）でご参加いただけます。（2名同時申込割引は適用されません）

割引適用の場合は、お申し込み後、技術情報協会より確認のご連絡を差し上げます。

※定員になり次第、お申込みは締切となります。
※申し込み人数が開催人数に満たない場合など，状況により中止させて頂く事が御座います。

●Live配信セミナーの受講について
・セミナー配布資料は印刷物を郵送いたします。
・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。
・本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。